Semiconductor & Precision Cleaning

半導体・精密洗浄向け 流体挙動可視化AI

ウェハ洗浄・リンス・乾燥工程では、純水や薬液の流れ方、液膜の広がり、液切れ、残留液が、洗浄効率や工程条件の最適化に影響します。

ABYSSは、カメラ映像に現れる波紋・反射・渦・液面変化・水滴・液切れ状態を解析し、ウェハ上や評価治具内の流体挙動を可視化します。

シミュレーションだけでは確認に時間がかかる流速分布や液膜状態を、実映像ベースで比較・検証し、装置開発・プロセス条件出し・洗浄条件改善を支援します。

装置開発・プロセス開発・評価治具での活用を想定しています。量産ラインへの適用は、撮像条件と運用要件を確認しながら段階的に検討します。

半導体ウェットプロセスで起きる流体課題

流れ・液膜が見えにくい

純水・薬液の流れや液膜状態は、装置内や回転ウェハ上では目視だけで把握しづらい場合があります。

流れムラや液切れの比較が重い

回転数、流量、ノズル位置、薬液条件の違いを動画で比較する作業に時間がかかります。

シミュレーションだけでは確認が遅い

CFDや装置シミュレーションは有効ですが、現物映像との突き合わせや条件検討には別の確認手段が必要です。

気液界面を含む解析が難しい

波紋、渦、泡、水滴、液面変化を含む2相流では、単純な静止画判定だけでは状態を捉えにくいことがあります。

撮像制約がある

白色光を使えない環境や黄色照明など、工程固有の照明・カメラ条件で特徴が映るか確認が必要です。

条件出しの説明材料が不足する

改善前後の流体挙動を、研究・装置開発・プロセス開発の関係者が共有できる形に整理しづらいことがあります。

映像に現れる流体変化を捉え、条件比較を高速化

液膜・流速分布の可視化

波紋、反射、渦、流れ筋が映る場合、流れ方向や流況変化を可視化します。

流れムラ・液切れ確認

流量、回転数、ノズル位置の違いによる液膜状態の変化を比較します。

残留液・水滴確認

残留液、水滴、液切れ不良、ウォーターマーク候補の確認を支援します。

装置開発・条件出し

実映像ベースで条件A/Bを比較し、改善サイクルを早める判断材料を整理します。

評価治具・透明槽解析

模擬液やトレーサー粒子を使ったR&D用途の流れ可視化にも対応します。

カメラ映像から、液膜・波紋・流れの変化を解析

撮影条件が異なる短時間動画を比較し、映像上に現れる特徴をABYSSで抽出します。結果はカラーマップ、ベクトル、比較グラフなどの形で、装置開発・プロセス改善の検討材料にできます。

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カメラでウェハ・基板・評価治具を撮影

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波紋、反射、渦、水滴、液切れを抽出

3

ABYSSが流体挙動を解析

4

カラーマップ、ベクトル、比較グラフで可視化

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条件比較、装置開発、プロセス改善に活用

解析可能性は、実際の撮像映像で確認します

ABYSSは、映像上に現れる流体の変化を解析するAIです。完全に透明で、波紋・反射・濃淡・粒子・泡・液切れなどの視覚的特徴が現れない場合、解析が難しいことがあります。まずは短時間の動画サンプルをもとに、解析可能性を確認します。

できること

  • ウェハ洗浄時の流れ方向・流況変化の可視化
  • 液膜状態の相対比較
  • 水滴・残留液・液切れ状態の確認支援
  • 回転数、流量、ノズル位置、薬液条件の比較
  • トレーサー粒子を使ったR&D用途の流況解析

注意が必要なこと

  • 膜厚の絶対値を高精度に測定するものではありません
  • 半導体欠陥検査AIではありません
  • 歩留まり改善を直接保証するものではありません
  • 黄色照明などの限定波長環境では、映像上に特徴が出るか検証が必要です
  • 量産ラインでトレーサー粒子を使う前提の訴求はしません

まずは撮影条件から相談できます。

回転数、流量、ノズル位置、照明条件などが異なる短時間動画をご共有いただくことで、ABYSSでどこまで流体挙動を捉えられるか確認できます。動画がまだない場合は、撮影方法と評価治具の条件から整理します。